Was sind die zehn häufigsten mit hoher temperatur beständigen Sputterziele?

 

Hochtemperaturbeständige Sputterziele spielen eine wichtige Rolle für die zehn wichtigsten Hochtemperaturen -Sputterziele:

Molybdän- und Molybdän -Legierungsziele

Merkmale: Molybdän ist ein silbergraues Metall mit einem Schmelzpunkt von 2623 Grad und einer Dichte von 10,2 g\/cm³. Molybdän und seine Legierungen haben die Vorteile eines hohen Schmelzpunkts, einer guten elektrischen und thermischen Leitfähigkeit, einem niedrigen thermischen Expansionskoeffizienten, einer hervorragenden Korrosionsbeständigkeit und der Freundlichkeit der Umwelt.

Anwendung: Molybdän- und Molybdän -Legierungsziele wurden in elektronischen Geräten, Solarzellen, Glasbeschichtung und anderen Feldern häufig verwendet.

 

Ruthenium Metall Target

Merkmale: Rutheniumziele haben eine gute Wärmebeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und mechanische Festigkeit und sind für die Verwendung in hoher Temperatur, hohem Druck und korrosiven Umgebungen geeignet.

 

Vorbereitungsprozess: Das Ruthenium -Pulver wird in eine Graphitform geladen, verdichtet und in einen vakuumischen, heißen Presseofen für unidirektionales heißes Presssintern gelegt. Der Sinterprozess wird unter einer Schutzgasatmosphäre durchgeführt. Die Sintertemperatur ist 1600-1800 Grad und der Sinterdruck ist 5-20 MPA.

 

Anwendung: Ruthenium -Ziele können zur Ablagerung von Dünnfilmen von elektronischen Geräten sowie zur Herstellung von optischen Dünnfilmen und optischen Beschichtungen verwendet werden.

 

Ultrahohe Purity Aluminium-Sputterziel

Merkmale: Aluminiumziele haben eine hohe Reinheit und eine hervorragende Leitfähigkeit und sind für die Herstellung von leitfähigen Schichten und Barriereschichten von Halbleitergeräten geeignet.

Marktstatus: Es wird geschätzt, dass der globale Markt für ultrahoch-hohe Reinheit Aluminium Sputtering Target im Jahr 2029 380 Mio. USD erreichen wird, wobei eine jährliche Wachstumsrate (CAGR) von 5,6%zusammengesetzt ist.

Kupfer -Indium -Gallium -Selenid -Ziel (CIGS)

Merkmale: CIGS-Ziele werden hauptsächlich bei der Herstellung von Dünnfilm-Solarzellen verwendet.

Anwendung: Mit der schnellen Entwicklung der Solarenergieindustrie steigt auch die Nachfrage nach CIGS -Zielen.

Indiumzinnoxid (ITO) Sputterziel

Merkmale: ITO -Ziele werden hauptsächlich zur Herstellung transparenter leitfähiger Filme verwendet und werden in Touchscreens und Flachbildschirmen häufig verwendet.

Marktposition: Mit der wachsenden Nachfrage nach Unterhaltungselektronik wird die Marktposition von ITO -Zielen immer wichtiger.

Wolfram -Sputterziel

Merkmale: Wolfram hat einen hohen Schmelzpunkt (3422 Grad) und eine hervorragende Verschleißfestigkeit, die für die Sputterablagerung von hohen Temperaturen und Verschleißmaterialien geeignet ist.

Anwendung: Wolframziele werden häufig in Halbleitern, elektronischen Geräten und Verschleiß-resistenten Beschichtungen verwendet.

Titan -Sputterziel

Merkmale: Titanziele weisen eine gute Korrosionsbeständigkeit und Biokompatibilität auf und sind für die Ablagerung von Medizinprodukten und Biosensoren geeignet.

Anwendung: Mit der kontinuierlichen Entwicklung der Medizintechnik haben Titanziele umfassende Anwendungsaussichten auf dem Gebiet der medizinischen Geräte.

Tantal -Sputter -Ziel

Merkmale: Tantal-Ziele haben einen hohen Schmelzpunkt (2996 Grad) und eine ausgezeichnete chemische Stabilität und sind für die Sputterablagerung von Hochtemperatur- und chemisch stabilen Materialien geeignet.

Anwendung: Tantal -Ziele werden häufig in elektronischen Geräten, Luft- und Raumfahrt- und Chemischen Industrien verwendet.

Niobium Sputtering Target

Merkmale: NIOBIUM -Ziele haben einen hohen Schmelzpunkt (2468 Grad) und hervorragende supraleitende Eigenschaften und eignen sich zur Sputterablagerung von supraleitenden Materialien und elektronischen Geräten.

Anwendung: NIOBIUM -Ziele werden häufig in supraleitenden Materialien, elektronischen Geräten und Luft- und Raumfahrtfeldern verwendet.

Zirkoniumsputterziel

Merkmale: Zirkoniumziele weisen eine gute Korrosionsbeständigkeit und Biokompatibilität auf und haben auch einen hohen Schmelzpunkt (1852 Grad), wodurch sie für die Ablagerung von korrosionsresistenten und biokompatiblen Materialien geeignet sind.

Anwendung: Zirkoniumziele werden häufig in medizinischen Geräten, chemischen Geräten, elektronischen Geräten und anderen Feldern verwendet.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass die oben genannten zehn hochtemperaturbeständigen Sputter-Ziele ihre eigenen Eigenschaften aufweisen und in Halbleitern, Optik, Photovoltaik, elektronischen Geräten, medizinischen Geräten und anderen Feldern häufig eingesetzt werden.Mit der Weiterentwicklung von Wissenschaft und Technologie und Veränderungen der Marktnachfrage bewegt sich die Forschung und Entwicklung dieser Ziele in Richtung höherer Leistung, niedrigeren Kosten und umweltfreundlicheren Richtungen.